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复合铜箔制造工艺与传统铜箔完全不同,采用设备也完全不同。
传统铜箔主要是由辊压或电解工艺生产得到,目前以电解铜箔为主。传统电解铜箔制造工艺包含四步,分别为:溶铜、生箔、后处理、分切。
溶铜:铜料溶解在硫酸中形成硫酸铜电解液,通过循环过滤,为后续的生箔工序供需提供符合工艺标准的电解液。
生箔:在生箔机电解槽中,硫酸铜电解液在直流电作用下,于阴极辊表面电沉积而制成原箔,经阴极辊连续转动,并将铜箔连续剥离,收卷形成卷状铜箔。传统铜箔制造流程的核心为生箔环节,阴极辊和生箔机为主要设备,性能要求较高。
后处理:对生箔工序制得的铜箔进行酸洗和有机防氧化等表面处理工序,使铜箔表面结构及防氧化性能达到客户要求。使用设备为表面处理机。
分切:根据客户对铜箔品质、幅宽、重量等要求,进行分切、分类、检验和包装。
复合铜箔主要使用两步法制成,也有一步法和三步法的方式。复合铜箔制造工艺基本原理是在 PET、PP、PI 等复合材料膜材上采用真空镀膜的方式将薄膜导电并金属化,形成一层较薄的金属铜镀层。再采用相对传统的水介质电镀的方式,将铜镀层加厚。
目前主流制备方法为两步法,两步法步骤为磁控溅射+水电镀增厚,需求设备为磁控溅射设备和水电镀设备。同时,也有部分厂商提出了一步法或三步法的方式,一步法目前分为两类,化学一步法和物理一步法,均为一次成型;三步法步骤为磁控溅射+真空蒸镀+水电镀,在磁控溅射后增加了真空蒸镀的环节,额外需要真空蒸镀设备。
两步法流程
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资料来源:广东腾胜科技,财信证券,思瀚
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